我校許并社教授團隊韓斌在Advanced Functional Materials 發(fā)表高水平研究論文

近日，我校前沿院材料原子·分子科學(xué)研究所許并社教授團隊韓斌副教授在材料領(lǐng)域國際頂級期刊《先進功能材料》（Advanced Functional Materials，影響因子19.924）發(fā)表題為“Transparent and Reusable Nanostencil Lithography for Organic-Inorganic Hybrid Perovskite Nanodevices”（透明可重復(fù)使用納米掩膜光刻技術(shù)用于有機-無機雜化鈣鈦礦納米器件的制備）的高水平論文。韓斌副教授為該論文的第一作者兼通訊作者，陜西科技大學(xué)為第一通訊單位，香港城市大學(xué)為共同通訊單位。該論文的發(fā)表標(biāo)志著我校在微納器件研究方面的重大突破，極大地提高了我校在半導(dǎo)體材料及器件領(lǐng)域的國際影響力。

透明納米掩膜光刻技術(shù)流程示意圖及器件實例

有機-無機雜化鈣鈦礦因其卓越的光學(xué)特性而備受關(guān)注，可用于開發(fā)新型光電器件。然而，用于制備雜化鈣鈦礦器件的光刻技術(shù)仍面臨巨大的挑戰(zhàn)。這主要是因為雜化鈣鈦礦材料在丙酮、水等光刻溶劑中極易受到損壞，因此傳統(tǒng)光刻技術(shù)無法與雜化鈣鈦礦材料兼容。韓斌副教授帶領(lǐng)研究生劉博、王光輝、邱琪等人經(jīng)過三年的努力，攻克了雜化鈣鈦礦納米器件制造的難題，開發(fā)了一種與雜化鈣鈦礦完美兼容的新型聚焦離子束（FIB）輔助透明納米掩膜光刻技術(shù)。該技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)100納米的超高光刻分辨率，并且可以實現(xiàn)精準(zhǔn)的掩模板對準(zhǔn)。此外，該掩膜版可以重復(fù)使用十多次，極大地降低了器件制造成本。該技術(shù)的開發(fā)將有助于雜化鈣鈦礦新型器件的開發(fā)以及器件的微型化和集成化。

新聞小貼士：

韓斌博士2017年畢業(yè)于日本東北大學(xué)金屬材料研究所，2017-2019年在香港城市大學(xué)從事博士后工作。2019年以陜西科技大學(xué)“青年拔尖人才”引進我校，加盟許并社教授團隊。韓斌博士主要依托陜西科技大學(xué)的微納加工平臺-聚焦離子束（JEOL JIB-4700F），開展新型半導(dǎo)體材料及其微納器件的研究。

論文詳細信息：Bin Han, Bo Liu, Guanghui Wang, Qi Qiu, Zhe Wang, Yuying Xi, Yanxia Cui, Shufang Ma, Bingshe Xu, and Hsien-Yi Hsu,“Transparent and Reusable Nanostencil Lithography for Organic-Inorganic Hybrid Perovskite Nanodevices”Advanced Functional Materials,2023, 2300570. (DOI:10.1002/adfm.202300570)

（核稿：強濤濤 編輯：劉倩）